就在記憶體大廠長鑫科技大舉募資上市之際，中國再傳出國產浸潤式深紫外光（DUV）曝光機進入量產，牽動全球半導體設備股表現。消息曝光後，荷蘭半導體設備龍頭ASML股價一度重挫逾一成，創近月來最大跌幅。
就在記憶體大廠長鑫科技大舉募資上市之際，中國再傳出國產浸潤式深紫外光（DUV）曝光機進入量產，牽動全球半導體設備股表現。消息曝光後，荷蘭半導體設備龍頭ASML股價一度重挫逾一成，創近月來最大跌幅。
根據美國科技媒體《The Information》和《路透社》報導，中國已開始量產自主研發的浸潤式DUV曝光機，由上海新成立、具官方背景的愛晟納電子科技集團主導，整合上海微電子及宇量昇等團隊技術，首批設備預計今年交付中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等中國主要晶圓與記憶體製造商。
曝光機是晶圓製造最核心的設備之一，其中EUV主要用於7奈米以下先進製程，而浸潤式DUV則是目前28奈米及以上製程的主力設備，若搭配多重曝光技術，也可挑戰更先進製程，因此一直是美國出口管制的重要項目。自2019年起，ASML即無法向中國出口EUV設備，近年美國更持續要求盟友收緊高階DUV設備出口，使中國加速投入國產設備研發。
產業人士指出，過去中國晶片廠即使具備設計能力，也仍高度依賴ASML等海外設備供應商，一旦出口管制升級，先進製程與擴產計畫便可能受到影響。如今國產DUV開始量產，雖然性能、可靠度及良率仍與ASML產品存在差距，但至少可為成熟製程提供替代方案，也提高中國半導體供應鏈自主性。
根據報導，中國今年預計生產約5台浸潤式DUV設備，2027年約20台，數量仍遠低於全球需求，且高階晶片量產仍需更高精度與穩定性的設備支援，因此現階段更多屬於建立自主備援能力，而非立即取代國際設備。
不過，市場仍將此視為中國半導體自主化的重要里程碑。近年美國持續透過出口管制限制中國取得高階設備、EDA軟體及AI晶片，但中國則透過政策資金、地方政府及國有企業投入設備、材料及製造環節，希望降低對海外供應鏈依賴。此次國產DUV量產，也被視為中國半導體設備發展由研發階段邁向商業化的重要一步。
長鑫存儲近期甫完成亞洲最大IPO，象徵中國開始透過資本市場支撐半導體擴產，如今再宣示關鍵設備自主生產能力。產業人士認為，未來市場關注焦點，將是中國能否藉由成熟製程、設備國產化及龐大內需市場，逐步建立一套相對獨立的半導體供應鏈，進一步改變全球產業競爭格局。
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